基于套刻误差测试标记的彗差检测技术

摘要：

为了满足光刻机投影物镜彗差测量精度的要求,提出一种基于套刻误差测试标记的彗差检测技术,分析了彗差对套刻误差测试标记空间像的影响,详细叙述了该技术的测量原理,并利用PROLITH光刻仿真软件对不同数值孔径与部分相干因子设置下套刻误差相对于彗差的灵敏度系数进行了仿真实验.结果表明,与目前国际上通常使用的投影物镜彗差检测技术相比,该技术在传统照明条件下灵敏度系数Kz7与Kz14的变化范围分别增加了27.5%和34.3%,而在环形照明条件下则分别增加了20.4%和22.1%,因此彗差的测量精度可提高20%以上.

关键词：光学测量、光刻机、彗差、套刻误差、投影物镜

所属期刊栏目：26

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：国家高技术研究发展计划863计划2002AA4Z3000

在线出版日期：2008-08-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：1037-1042