中频孪生磁控溅射WO3薄膜及变色性能研究

摘要：

采用先进的中频孪生非平衡磁控溅射技术,以金属钨为靶材,制备非晶态WO3电致变色薄膜.用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、紫外分光光度计等测试手段分析薄膜的结构、表面形貌、成分以及透射光谱特性.研究了氧气流量比及热处理温度对WO3薄膜变色性能的影响.结果表明,中频孪生非平衡磁控溅射技术是制备WO3变色薄膜的一种有效方法;室温条件下沉积获得的原始态薄膜为非晶态WO3;提高氧气流量比和适当热处理温度能有效改善薄膜的电致变色性能.实验中在较高氧气流量比,200℃热处理条件下制备的薄膜在380～780 nm的可见光范围内着色态和褪色态平均透光率差值高达50%以上,表现出较好的电致变色性能.

关键词：薄膜光学、电致变色、WO3薄膜、磁控溅射、非晶、中频

所属期刊栏目：26

分类号：TB34(工程材料学)

在线出版日期：2008-08-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：938-942