深紫外准分子激光实时曝光剂量控制算法研究

摘要：

提出了一种面向步进扫描投影光刻机的深紫外准分子激光实时曝光剂量控制算法.通过建立扫描曝光过程的抽象模型并分析准分子激光器单脉冲能量波动特性,提出采用闭环反馈控制进行实时调节,着重研究了抑制单脉冲能量超调和随机波动的有效算法.在一台波长为193 nm、重复频率为4 kHz、单脉冲能量为5 mJ的ArF准分子激光器上进行了实验研究.结果表明,当脉冲个数仅为20时算法控制下的剂量精度即可达0.89%,不但满足亚微米光刻越来越严的剂量要求,而且有助于提高光刻机生产效率和激光器使用效率.

关键词：应用光学、深紫外准分子激光、剂量控制、扫描曝光、光刻机、能量超调、脉冲能量随机波动

所属期刊栏目：26

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：国家高技术研究发展计划863计划50205009；50575078

在线出版日期：2008-08-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：878-884