X射线W/B4C宽带多层膜的优化设计和制备

摘要：

介绍了X射线宽带多层膜材料W和B4C的选定方法,依据伯宁(BERNING)公式确定出了在0.154 nm处X射线宽带多层膜的最佳膜对数.引入适当的评价函数,利用具有全局寻优特性且效率较高的遗传算法,在波长0.154 nm处优化设计出了掠入射角(θ)0.5°～0.9°范围内反射率值达到40%的宽角度宽带多层膜.宽带多层膜反射镜采用磁控溅射方法制备,并用X射线衍射仪对样品进行了检测,结果表明在掠入射角(2θ)1.0°～1.8°之间的相对反射率光谱曲线比较平坦.

关键词：X射线光学、宽带多层膜、评价函数、遗传算法、磁控溅射

所属期刊栏目：25

分类号：O484.4(固体物理学)

在线出版日期：2008-08-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：1433-1435