精确控制大数值孔径微透镜列阵面形的显影阈值方法

摘要：

提出了一种可对大矢高、非球面微透镜阵列面形进行精确控制的新方法.针对不同面形的微透镜阵列,该方法首先对光致抗蚀剂表面的曝光分布进行设计,然后,利用光致抗蚀剂显影过程中的阈值特性,对微透镜的面形实行控制.当抗蚀剂显影速率接近0时,即可获得设计的微透镜面形.该方法不仅大大提高了微透镜阵列矢高的加工范围,而且还减小了光刻材料显影特性对微透镜面形的影响,提高了微透镜阵列的面形控制精度,在实验中获得了矢高达114 μm的微透镜阵列.最终实现了大浮雕深度、大数值孔径、非球面微列阵光学元件的面形控制.

关键词：显影阈值、正性光致抗蚀剂、光刻模型、面形控制

所属期刊栏目：24

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：中国科学院知识创新工程项目

在线出版日期：2004-08-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：869-872