Cu/Ti超晶格薄膜的强紫外反射性能研究

摘要：

采用直流磁控溅射方法制备了一维二组元Cu/Ti周期超晶格金属薄膜，研究了基片温度、膜周期数、基片取向与紫外反射的关系。当基片加热温度为470 ℃时，在硅（100）晶面上生长的30层Cu/Ti膜，层间膜厚控制在1∶3、膜总厚度控制为300 nm时，所制备的超晶格薄膜在5°入射角下对200nm的紫外光,其反射率可高达90%。

关键词：磁控溅射、Cu/Ti超晶格膜、紫外光、反射率

所属期刊栏目：21

分类号：O484.4+1(固体物理学)

在线出版日期：2008-08-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：673-675