10.3321/j.issn:0253-2239.2000.04.025
偶氮染料掺杂高分子PMMA薄膜的光学参数
在单晶硅片上, 利用旋涂法, 制备了偶氮染料掺杂高分子(PMMA)薄膜, 利用可变入射角、波长扫描的全自动椭圆偏振光谱仪, 研究了薄膜的复折射率、吸收系数和厚度, 分析了影响薄膜电子光谱的因素. 研究结果表明, 该薄膜在400~600 nm波长范围内, 存在强而宽的吸收, 并且发现分子的聚集状态对该染料的吸收光谱有较大的影响.
偶氮染料薄膜、椭圆偏振光谱、光学常数
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TS1(纺织工业、染整工业)
国家高技术研究发展计划863计划59832060;中国博士后科学基金;中国科学院所长基金
2008-08-04(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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565-569