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10.3969/j.issn.1673-5749.2006.06.003

自蚀粘接剂与羟磷灰石/釉质间化学粘接的最新进展

引用
化学粘接可获得较大且持久的粘接力,是牙体粘接学的重要发展方向之一.羧酸或含羧酸的自蚀粘接剂与含磷酸酯的自蚀粘接剂可通过离子键化学吸附于牙齿无机成分之上,获得良好的粘接效果.本文对自蚀粘接剂与牙齿无机成分间化学粘接机制的最新研究进展作一综述.

羧酸、磷酸酯、自蚀粘接剂、羟磷灰石、釉质

33

R78(口腔科学)

2006-12-25(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共3页

420-422

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国际口腔医学杂志

1673-5749

51-1698/R

33

2006,33(6)

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