电源占空比对TC4合金微弧氧化生物膜层性能影响

摘要：

为了利用微弧氧化工艺在钛合金表面制备钙磷生物膜层,并确定该工艺电源占空比对膜层性能影响.研究了在恒电流和恒电压下,电源占空比对于膜层厚度、表面粗糙度和钙磷摩尔含量的影响规律.并利用SEM分析了不同占空比对于膜层表面形貌的影响.结果表明,恒压下随占空比增加,膜层厚度和表面粗糙度同时增加,膜层中钙磷含量增加;而恒流模式下,膜层厚度和表面粗糙度增长缓慢且呈先增加后减小趋势,膜层表面形貌、粗糙程度变化不大.故希望获得厚膜层应选择恒压模式,而恒流模式适于表面光滑膜层制备.

关键词：微孤氧化、占空比、膜层厚度、表面粗糙度

所属期刊栏目：35

分类号：TG174.444(金属学与热处理)

资助基金：2013年辽宁省教育厅科学研究项目项目号L2013514

在线出版日期：2014-06-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：15-18