溅射气压对磁控溅射TiN薄膜光学性能的影响

摘要：

采用直流反应磁控溅射方法在Si(111)基底上沉积了氮化钛薄膜.研究了在溅射沉积过程中,改变腔体气压对所制备的薄膜结构及性能的影响.研究发现:在保持其它工艺参数不变的条件下,沉积的TiN薄膜在不同溅射气压下生成的物相不同,薄膜的主要成分是立方相TiN,薄膜的结晶均显示出明显的TiN(200)择优取向.在腔体气压为0.5 Pa时出现的TiN(200)衍射峰最强、择优取向最明显.随着腔体气压的增加,薄膜厚度变小,而衍射峰则呈减弱的趋势,TiN薄膜的生长可能无择优取向.当腔体气压为0.35 Pa时,膜层致密均匀,没有大尺寸缺陷且粗糙度好,薄膜的结晶度最好,表面也最光滑,在测试波长范围内对光的平均反射率最大,可满足光学薄膜质量方面的要求.

关键词：氮化钛薄膜、磁控溅射、溅射气压、光学性能

所属期刊栏目：31

分类号：TG174.444(金属学与热处理)

资助基金：韩山师范学院2009年教授启动项目;江西省新余市2008年自然科学基金项目2008zrkxjj03;江西省教育厅2009年科技计划项目GJJ09385

在线出版日期：2010-08-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：27-30,38