HVOF喷涂NiCrAlY涂层在1 200℃时的循环和等温氧化

摘要：

用热重分析法(TGA)、扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)和X射线光电子能谱(XPS)研究了Ni-20Cr-10Al-1Y厚涂层在1 200℃的等温氧化和循环氧化.用HVOF技术制备的涂层在热处理后非常致密,且无裂纹.SEM分析发现,形成的抗氧化层在循环氧化过程中没有剥落.此外,根据分析TGA数据验证了三种氧化方式,两种低于1 000℃,第三种约1 200℃.1 000℃以下的与在涂层表面和次表面上元素选择性氧化相对应,而第三种方式涉及到元素从涂层内向表面的扩散,氧化方式变成在1 200℃时形成稳定氧化物的渐近过程.用X射线衍射分析证实,存在水蒸汽既不影响在表面形成的氧化物晶体的方位,也不影响其厚度.XPS和X射线衍射分析结果表明,涂层和基体之间的相互扩散使其界面上的Cr浓度略有增加,氧化层内元素分布有下面的次序:从氧化层的外层到涂层的体内分别为:Al-氧化物/Y-氧化物/Ni-氧化物/NiCrAlY.这些结果表明,致密的Ni-20Cr-10Al-1Y的HVOF喷涂涂层可以用于在1 200℃等温氧化和循环氧化的抗氧化阻挡层.

关键词：NiCrAlY涂层、元素迁移、氧化、抗氧化膜

所属期刊栏目：24

分类号：TG17(金属学与热处理)

在线出版日期：2004-07-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：17-20