铜铟镓硒薄膜组件激光刻线最佳间距的研究

摘要：

通过建立数学模型推导出以有效工作区宽度w为参数的功率损失方程,根据铜铟镓硒薄膜和导电膜的实际电学参数计算出了优化的w值,从而得到最佳激光刻线间距为5.56 mm,进一步研究了铜铟镓硒薄膜组件激光刻线间距对输出功率损失的影响。

关键词：铜铟镓硒、激光刻线、透明氧化物导电膜、死区、功率损失

所属期刊栏目：37

分类号：TM9;TN3

在线出版日期：2016-07-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：13-16