辉光放电质谱仪直接测定高纯银的痕量杂质元素

摘要：

本文报道了一种在无标准样品存在时，用辉光放电质谱仪ELEMENT GD直接且快速地测定高纯银中痕量杂质元素的方法。该方法可应用于冶金或半导体工业中高纯金属和半导体材料中痕量杂质元素的定量分析，也可提升高纯金属的痕量分析技术水平。

关键词：辉光放电质谱法、高纯银、痕量元素、测定

分类号：O657.63(分析化学)

在线出版日期：2014-07-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：126-127