10.3969/j.issn.1002-5561.2003.02.011
掺镱双包层结构单模石英光纤的制备
主要介绍了用MCVD工艺及溶液掺杂法制备掺Yb3+双包层结构单模石英光纤的原理及制作工艺.制作出Yb 3+掺杂浓度高(吸收损耗2-10dB/m)(976nm)、基底损耗低(<10dB/Km)(1 300nm)的掺Yb3+双包层结构单模石英光纤.
Yb3+掺杂、双包层光纤、溶液掺杂
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TN929.11
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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