10.7673/j.issn.1006-2793.2014.02.022
游离碳对SiC薄膜微观结构的影响
以一甲基三氯硅烷为先驱体原料( MTS),H2气为载气,采用化学气相沉积( CVD)工艺,在Si基体表面制备SiC膜层。利用XPS、XRD、SEM以及HRTEM等表征方法,研究当沉积为SiC+C时,游离碳对SiC膜层微观结构及其力学性能的影响。结果表明,膜层由SiC和C两相组成,形成SiC/C复合膜层结构,游离碳引起SiC晶粒细化。在SiC/C膜层中,游离碳的石墨化程度低,主要以无定形结构存在于SiC晶粒之间,形成富C区。由于SiC膜层中含有富C区,填充了SiC晶粒之间缺陷,这有利于提高SiC膜层的机械强度,以及改善SiC/Si之间的晶格匹配。
化学气相沉积、游离碳、SiC/C复合膜、微观结构
V258(航空用材料)
国家自然科学基金项目51073094;辽宁省高等学校优秀人才支持计划项目2008RC39。
2014-06-18(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
258-261