SiWN/SiWON双吸收层薄膜的光吸收性能

摘要：

采用磁控溅射法在玻璃基底上制备了氮化物SiWN和氮氧化物SiWON层.通过拟合反射光谱和透射光谱数据,分别获得两个吸收层的折射率和消光系数.SiWN层的折射率大于0.75,消光系数大于1.25并且随着波长的增长而增加,表现出金属性质.SiWON层具有低的消光系数(0.5～1.5),表现出半导体性质.根据SiWN和SiWON单层的光学常数,模拟得到理论吸收率为0.901的SiWN/SiWON双吸收层.根据拟合得到的参数,制备了吸收率为0.895的双吸收层.

关键词：硅钨氮化物、光学常数、磁控溅射、吸收率

所属期刊栏目：46

分类号：TB34(工程材料学)

资助基金：国家自然科学基金重点项目51732001;国家自然科学基金面上项目51572010;中央高校基本科研业务费

在线出版日期：2018-07-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：633-637