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10.14062/j.issn.0454-5648.2018.05.03

SiWN/SiWON双吸收层薄膜的光吸收性能

引用
采用磁控溅射法在玻璃基底上制备了氮化物SiWN和氮氧化物SiWON层.通过拟合反射光谱和透射光谱数据,分别获得两个吸收层的折射率和消光系数.SiWN层的折射率大于0.75,消光系数大于1.25并且随着波长的增长而增加,表现出金属性质.SiWON层具有低的消光系数(0.5~1.5),表现出半导体性质.根据SiWN和SiWON单层的光学常数,模拟得到理论吸收率为0.901的SiWN/SiWON双吸收层.根据拟合得到的参数,制备了吸收率为0.895的双吸收层.

硅钨氮化物、光学常数、磁控溅射、吸收率

46

TB34(工程材料学)

国家自然科学基金重点项目51732001;国家自然科学基金面上项目51572010;中央高校基本科研业务费

2018-07-02(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

633-637

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0454-5648

11-2310/TQ

46

2018,46(5)

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