10.14062/j.issn.0454-5648.2017.01.11
多孔硅形成过程中的晶态转变
采用电化学阳极氧化法,对p型单晶硅施加30 mA/cm2的恒定电流密度,在40%氢氟酸溶液中和氮气保护气氛下分别极化1、3和5min,制备不同生长阶段的多孔硅样品,通过表面形貌观测及微观结构表征,获得从单晶硅到多孔硅形成过程所涉及的各种晶态组成的相对比例.结果表明:不同极化时间制得的单晶硅表面均形成了海绵状均匀分布的纳米孔洞结构.在多孔硅的形成过程中,单晶硅结构发生了显著的晶态转变和晶粒尺寸变化,导致大单晶、纳米晶和无定形态并存,晶粒直径从初期的1.41 nm减小到并保持在0.65 nm,而晶态的转变和晶粒尺寸的变化被认为与晶格畸变程度有关.
多孔硅、单晶硅、Raman光谱、无定形、晶格畸变
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O611.2(无机化学)
国家自然科学基金项目11372263;福建省特种先进材料重点实验室开放课题资助项目
2017-02-24(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
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