10.7521/j.issn.0454-5648.2013.06.12
固结磨料抛光LiB3O5晶体的抛光液优化
LiB3O5(LBO)非线性光学晶体软、脆的特点增加了超精密加工的难度.采用固结磨料抛光技术对LBO晶体(110)面进行抛光,研究酸性、中性和碱性抛光液pH值调节剂及pH值对晶体抛光材料去除率、表面形貌和表面粗糙度的影响.结果表明:酸性抛光液对LBO晶体表面的腐蚀作用太大,中性抛光液的腐蚀作用太小,不适合抛光LBO晶体;乙二胺配制pH值为11的无磨料碱性抛光液固结磨料抛光LBO晶体(110)面,获得高的晶体表面质量,表面粗糙度Sa为1.94 nm,表面损伤小.
三硼酸锂晶体、固结磨料抛光、材料去除率、表面形貌、表面粗糙度
41
TG356.28;TG580.692(金属压力加工)
国家自然科学基金项目50905086,51175260;中央高校基本科研业务费专项资金NP2012506;江苏省高校优势学科建设工程资助
2013-07-29(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共8页
789-796