中子辐照对6H-SiC晶体比热容的影响
万方数据知识服务平台
应用市场
我的应用
会员HOT
万方期刊
×

点击收藏,不怕下次找不到~

@万方数据
会员HOT

期刊专题

10.3321/j.issn:0454-5648.2009.04.022

中子辐照对6H-SiC晶体比热容的影响

引用
用剂量为8.2×1018/cm2的中子对6H-SiC晶体进行了辐照.采用X射线衍射仪、差示扫描量热仪测试6H-SiC晶体中辐照损伤.结果表明:中子辐照对6H-SiC样品产生了严重损伤,且辐照后的6H-SiC的比热容明显上升.对辐照样品进行了常温至1 200℃的退火处理,退火后的辐照样品的比热容先随退火温度的升高而逐渐降低,1 000℃时比热容到达最低值;当退火温度超过1 000℃时晶体的比热容反而上升.运用从头算方法定性计算了晶体中间隙原子对比热容的影响.结果表明:晶体经中子辐照及退火后,其比热容发生变化的主要原因在于晶体中间隙原子的浓度的变化.辐照后的样品在超过1 000℃退火时比热容的反常回升现象,极有可能与辐照前对晶体所作的在1 000℃的预退火处理有关.

碳化硅晶体、中子辐照、比热容

37

O77+4(晶体缺陷)

天津市自然科学基金07JCZDJC00600,07JCYBJC06000

2009-05-19(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

605-608

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

硅酸盐学报

0454-5648

11-2310/TQ

37

2009,37(4)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn