浮法玻璃下表面渗锡的X射线光电子谱

摘要：

利用X射线光电子谱仪(X-ray photoelectron spectroscopy,XPS)对国内外浮法玻璃样品(样品A和样品B)下表面渗锡情况进行了对比分析.结果表明:在浮法玻璃下表面900 nm范围内,2种样品中的锡离子在渗锡面均以Sn0,Sn2+,Sn4+3种价态存在,Sn2+在整个渗锡量中均占最大比例.在近表面区,渗锡均以Sn2+态为主,Sn0和Sn2+含量之和均占到总渗锡量的90%以上,且样品A渗锡量远远高于样品B的渗锡量.样品A的不同锡离子相对含量沿深度变化较大,而样品B的不同锡离子相对含量沿深度变化小于1%.结合扫描电子显微镜形貌观察可知:钢化虹彩现象是由钢化处理中,Sn2+转变为Sn4+的氧化反应导致的体积膨胀引起的.在该反应过程中单胞体积增大3%.综合XPS与钢化虹彩实验结果可知,XPS分析可以有效而精确地提供浮法玻璃中锡的价态以及含量信息.

关键词：浮法玻璃、锡、X射线光电子谱、钢化虹彩

所属期刊栏目：33

分类号：TQ171.1;O0647

在线出版日期：2006-02-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：1535-1538