MgF2氧化现象的X射线衍射研究

摘要：

采用X射线衍射方法, 研究高稳定化学结构的MgF2在30%Ag(质量分数,下同)掺杂下 , 在低真空中(≥30 Pa)高温(≥600 ℃)烧结后, 氧化成为MgO的过程.在烧结温度为600 ℃, 恒温时间为2 h时, XRD出现d为2.432 6, 2.106 5, 1.4896(0A)的MgO衍射峰 .随着烧结温度升高, MgF2的衍射峰逐渐减弱减少, MgO的衍射峰则逐渐增强增多. 到1 250 ℃时, MgF2的衍射峰全部消失.然而, 将MgF2-30%Ag样品在高真空中(＜10-3 Pa)1 000 ℃烧结, 恒温2 h, 未观察到MgF2有氧化现象.如果将纯Mg F2样品在开口高温炉中(即大气中)1 000 ℃烧结, 仅发现3个较弱的MgO衍射峰(相应的d值为2.100 8, 1.488 2, 1.052 5 ?), MgF2的衍射峰全部出现. 讨论了MgF2的氧化机理, 指出Ag在MgF2的氧化过程中起了中间媒介作用.

关键词：氧化现象、氟化镁-银复合材料、氟化镁、烧结、X射线衍射

所属期刊栏目：30

分类号：O434.5(光学)

资助基金：国家自然科学基金59972001;安徽省教育厅科研项目99JL0024

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：505-508