10.3321/j.issn:0454-5648.2002.02.018
a-C∶H(N)类金刚石薄膜的结构及内应力分析
采用射频等离子增强化学气相沉积法制备出a-C∶H(N)类金刚石薄膜, 用X射线光电子能谱、红外吸收谱和慢正电子湮灭谱研究了薄膜的结构, 用弯曲法测定了薄膜的内应力. 随着混合气体中N2的含量从0增加到75%, 薄膜中含N量可增加到9.09%(摩尔分数), N原子与C 原子以―C-N, CN和C≡N键的形式结合. 薄膜中的缺陷密度随含N量而增加, 而薄膜的内应力则随着薄膜中N含量的增加而单调降低.
类金刚石薄膜、掺氮非晶碳氢膜、内应力、等离子增强化学气相沉积
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O484.41;TN304.18(固体物理学)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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