气相沉积BN膜的性能及形成机制的研究

摘要：

用射频等离子体辅助化学气相沉积技术制备了BN膜. 对以Ar+10%H2(体积分数)、H2和N2气为载气沉积的膜,进行了FTIR,TEM,SEM等分析,比较了不同载气下膜层的立方氮化硼含量、膜基结合力、膜层残余应力、硬度和耐磨性. 对立方氮化硼的形成机制进行了探讨.

关键词：立方氮化硼膜、射频等离子体辅助化学气相沉积、载气

所属期刊栏目：27

分类号：O484(固体物理学)

资助基金：中国科学院资助项目59671084

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：293-297