某半合成青霉素制药废水的水质指纹特性

摘要：

近年来,地表水中时有抗生素检出,且浓度较高,因此加强抗生素废水的监管势在必行。三维荧光技术快速、简便且灵敏度高,可以反映有机物组成,其光谱被称为水质指纹。选取某典型半合成青霉素制药废水进行水质指纹特性研究。该废水共有4个主要水纹峰,分别位于激发波长/发射波长为360/445,255/445,275/305和230/300 nm附近。在一定浓度范围内,各峰强度与污染物浓度呈现良好的线性关系。该废水的两个峰275/305和230/300 nm可能源于产品中间体左旋对羟基苯甘氨酸邓钾盐、产品阿莫西林和水解产物左旋对羟基苯甘氨酸等。pH 对水质指纹有明显影响,这显示出某些荧光污染物可能具有酸碱基团。水质指纹能够用于该种抗生素制药废水的监测。

关键词：半合成青霉素制药废水、荧光、水质指纹、pH

所属期刊栏目：36

分类号：O657.3(分析化学)

资助基金：国家水体污染控制与治理科技重大专项项目2014ZX07305001;863主题项目2011AA060901;清华大学自主科研项目20131089252

在线出版日期：2016-12-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：3602-3607