旋涂法和热蒸发制备紫外CCD用晕苯薄膜的性能对比

摘要：

晕苯是一种用于真空紫外光致发光重要的下转换材料。本文研究旋涂法和热蒸发法制备紫外CCD用晕苯薄膜的工艺方法，并对所制备的两种薄膜的性能进行了表征和对比。测试结果表明：旋涂方式成膜工艺简单，材料利用率较高，并且保持了荧光材料本身固有的晶体结构，但是膜面粗糙度较大；热蒸发方式成膜后紫外吸收较强，荧光发射强度相对较高，成膜后膜面粗糙度较小；热蒸发工艺在加热过程中改变了晕苯的晶体结构并形成了新的结晶态；相比于旋涂法，热蒸发的整个制备工艺相对复杂，并且生产成本较高。此外，该对比性研究工作为实现不同要求（如荧光发射强度、表面粗糙度、生产成本等）的荧光下转换薄膜的制备提供了理论指导。

关键词：旋涂法、热蒸发、晕苯、紫外增强、紫外CCD

分类号：TN247(光电子技术、激光技术)

资助基金：国家科技支撑计划项目2011BAF02804;国家重大科学仪器设备开发专项项目2011YQ15004003;上海市教委曙光项目11SG44;上海市重点学科建设项目S30502

在线出版日期：2014-05-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：1319-1322