Ho3+∶FOG与Ho3+∶FOV的光谱学参量计算

摘要：

通过实验分别测得了掺杂Ho3+ (0.5 mol％)的氟氧化物玻璃(FOG)样品和掺杂Ho3+ (0.5 mol％)的氟氧化物玻璃陶瓷(FOV)样品的吸收光谱,根据Jubb-Ofelt理论拟合出两种材料强度三参量Ω2,4,6,并且分析了两种材料在强度参量上产生差异的可能原因.再由拟合得到的强度参量值计算出了各激发态之间的振子强度,自发辐射跃迁速率,荧光分支比和积分发射截面等光谱学参量,并且对两种材料的各参量进行了对比分析,Ho3+在FOV和在FOG中的振子强度相差不多,与在YAlO3中大致相同,比在钛酸铝氟化物玻璃(lead borale titanale aluminium fluoride,LBTAF)中稍强,比在LaF3和锆系氟化物玻璃(ZrF4-BaF2-LaF3-A1F3-NaF,ZBLAN)更强.通过分析计算得到的光谱学参量,可以发现有些跃迁,特别是5I7→5I8,5F5→5I8等,具有比较大的振子强度(大于10-6)和积分发射截面(大于10-18 cm),具备形成激光通道的条件,因此值得关注.总结了几个强发光能级在不同领域的应用前景.

关键词：Ho3+、氟氧化物玻璃、氟氧化物玻璃陶瓷、J-O理论、光谱学参量、量子剪裁

所属期刊栏目：33

分类号：O433.1(光学)

资助基金：中央高校基本科研业务费专项资金项目212-105560GK;国家自然科学基金项目10674019

在线出版日期：2013-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：1734-1738