不同方法制备的类金刚石薄膜的XPS和Raman光谱的研究

摘要：

分别利用金属脉冲磁过滤真空阴极弧沉积法(FCVA)、直流磁控溅射法(SP)和脉冲辉光放电等离子体化学气相沉积法(PECVD)在硅片上沉积类金刚石膜层.并利用激光拉曼光谱法(Raman spectroscopy)和X射线光电子能谱法(XPS)对类金刚石膜层进行研究.通过研究分析发现,不同方法制备的类金刚石膜层的G峰位、D峰位、T峰位、半高宽、I(D)/I(G)值、I(T)/I(G)值和sp3键含量各不相同.其中,金属脉冲磁过滤真空阴极弧沉积法制备的类金刚石膜层的G峰位波数最大、I(D)/I(G)和半高宽最小、I(T)/I(G)最大、spa键含量最高;直流磁控溅射法制备的类金刚石膜层的G峰位波数、I(D)/I(G)、I(T)/I(G)和sp3键含量处于三者之间,G峰的半高宽是最大的;脉冲辉光放电等离子体化学气相沉积法制备的类金刚石膜层的G峰位波数sp3键含量最小、I(D)/I(G)最大、I(T)/I(G)最小.

关键词：类金刚石、制备方法、拉曼光谱、X射线光电子能谱

所属期刊栏目：31

分类号：TG175(金属学与热处理)

资助基金：国家自然科学基金项目10775046

在线出版日期：2011-10-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：1800-1803