高压条件下酪氨酸在线荧光光谱研究

摘要：

在Cu2+与酪氨酸摩尔浓度比为0至40范围内,考察了压力对酪氨酸荧光光谱的影响,结果表明:在无Cu2+情况下,压力对酪氨酸荧光强度具有增敏作用,压力越高,增敏效果越显著,当压力为60 MPa时,荧光强度增加了约9%.Cu2+对酪氨酸荧光有猝灭作用,Cu2+浓度越高,猝灭越强;在Cu2+存在的情况下,压力对酪氨酸荧光的影响因Cu2+浓度的不同而不同,Cu2+浓度较低时,压力的荧光增敏作用较弱(如在Cu2+浓度为酪氨酸的1倍,压力为60 MPa时,荧光强度增强14.4%);反之,压力的增敏作用就显著(如在Cu2+浓度为酪氨酸的40倍,压力为60 MPa时,荧光强度增强38.4%).

关键词：酪氨酸、铜离子、高压、荧光光谱

所属期刊栏目：31

分类号：O521(高压与高温物理学)

资助基金：国家自然科学基金项目40676059;国家863计划项目2007AA09Z210

在线出版日期：2011-08-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：1291-1294