基于近红外光谱投影及蒙特卡洛方法的烟叶配方比例上限分析

摘要：

通过PPF投影技术将烟叶配方原料的近红外光谱投影到二维坐标平面上,将原料烟叶光谱投影点按配方比例加权求和后构造出配方投影点,建市配方的投影结构模型,利用蒙特卡洛方法模拟原料烟叶投影点的自身差异变动来分析配方投影点偏离初始状态的程度.结果表明:配方主导权重,即配方样品的最高比例越小,烟叶原料种类越多.配方偏离初始状态的程度越小,即配方的稳定性越好,以上结论与烟叶配方设计时"多类型,低比例"的认识原则一致.本文从理论分析角度给出胃在不同原料种类数下进行配方设计时,所对应的配方样品比例上限值,该量化上限比例的方法对其他有关配方设计的问题也有指导意义.

关键词：降维投影技术、随机模拟法、近红外光谱

所属期刊栏目：31

分类号：O657.3(分析化学)

资助基金：国家"十一五"科技支撑计划项目-多功能农业装备与设施研制课题2006BAD11A12;红塔集团科技项目资助

在线出版日期：2011-07-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：915-919