10.3964/j.issn.1000-0593(2010)12-3272-05
氧化还原条件变化对上覆水体中溶解有机质的三维荧光光谱特征影响
利用三维荧光光谱(3EEMs)技术,考察了不同氧化还原条件对上覆水体中溶解有机质的三维荧光光谱特征的影响.好氧条件下上覆水体中DOM的荧光指数要高于厌氧条件,说明在不同的氧化还原条件下,上覆水体中DOM来源和组成均存在一定的差异性.上覆水体的三维荧光光谱特征也存在显著筹异:好氧条件下,上覆水体中的类蛋白荧光峰强度均高于腐殖质类荧光峰强度,且三维荧光光谱图显示腐殖质类DOM存在氧化降解现象.厌氧条件下,上覆水体中腐殖质类荧光峰的强度随培养天数逐渐增加,当厌氧培养时间为21 d,C和D荧光峰的强度已分别上升至初始的3.51和3.78倍.在不同的氧化还原条件下,类蛋白和类腐殖质类DOM荧光峰位置和强度的变化,表明不同类型DOM的生物可利用性程度和在沉积物-水界面间迁移转化特征的差异性.
上覆水体、三维荧光光谱、氧化还原条件
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O644.1(物理化学(理论化学)、化学物理学)
国家自然科学基金项目50830303,40903042;教育部"长江学者与创新团队发展计划"创新团队项目IRT0852;教育部博士点基金项目20096120120012;陕西省教育厅基金项目08JK329;陕西省自然科学基金项目2007E241;西建大青年基金项目QN0813;西建人人才科技基金项目RC0613
2011-03-09(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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