10.3964/j.issn.1000-0593(2009)09-2453-04
工业纯钛微弧氧化膜的结构及拉曼光谱分析
采用微弧氧化技术,用处理电压为300,350,400,450,500 V在工业纯钛表面制备了5块氧化膜试样,利用扫描电镜和拉曼光谱研究了处理电压对氧化膜结构的影响.结果表明:氧化膜表面布满了微孔,其尺寸随处理电压的升高而增加,而微孔密度则旱相反的变化趋势.氧化膜主要由锐钛矿和金红石相组成,其相含量与处理电压的大小密切相关.当处理电压较低时,氧化膜主要由锐钛矿相组成;随着处理电压的升高,氧化膜中金红石相的相对含量增加;当处理电压在400~450 V时,金红石相含量增加迅速,并成为主晶相.
钛、微弧氧化、拉曼光谱、相结构
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TG174;O657.3(金属学与热处理)
国家自然科学基金项目10774060/A040410
2009-10-30(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
2453-2456