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10.3964/j.issn.1000-0593(2008)12-2777-04

ZnGa2O4长余辉发光特性的研究

引用
以ZnO和Ga2O3为原料,采用高温固相法,在不同温度和原料配比下合成了ZnGa2O4.用254 nm的紫外灯照射样品后,发现存在余辉发光,有505和690 nm两个余辉峰,且余辉峰相对强度受原料配比和烧结温度等制备条件的影响.ZnO不足和温度较高时505 nm峰相对强度较高,ZnO过量和温度较低时690nm峰相对强度较高.讨论了余辉峰的来源,认为505 nm峰来源于结构中Ga3+替代了部分Zn2+后相对变形八面体中Ga3+的2EA→A2能级间跃迁;而690 nm峰起源于晶格中出现氧空位V0*后变形八面体中氧空位向其周围的O2-的V0*→O2-跃迁.解释了余辉峰相对强度受制备条件影响的原因:温度较高时ZnO较多挥发导致不足,而ZnO不足会使结构中出现Zn2+空位,从而多余的的Ga3+出现在这些空位上,其2EA到4A2能级间跃迁使505 nm发射占优;而温度较低时ZnO挥发较少,由于ZnO相对Ga2O3氧不足,可形成更多的O空位,有利于690nm发射占优,这与余辉峰来源的讨论相符合.

ZnGa2O4、长余辉、原料配比、烧结温度、发光特性

28

O482.3(固体物理学)

"973"计划项目2003CB314707;国家自然科学基金项目60476005,50532090;北京交通大学重点项目S07J0020

2009-03-27(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

2777-2780

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光谱学与光谱分析

1000-0593

11-2200/O4

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2008,28(12)

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