磁控溅射制备ZnO薄膜的结构及发光特性研究

摘要：

采用射频反应磁控溅射法在玻璃衬底上制备出具有C轴高择优取向的ZnO薄膜,利用X射线衍射、扫描探针显微镜及荧光分光光度法研究了生长温度对ZnO薄膜微观结构及光致发光特性的影响.结果表明,合适的衬底温度有利于提高ZnO薄膜的结晶质量;在室温下测量样品的光致发光谱(PL),观察到波长位于400 nm左右的紫光、446 nm左右的蓝色发光峰及502 nm左右微弱的绿光峰,随衬底温度升高,样品的PL谱中紫光及蓝光强度逐渐增大,同时,绿光峰的强度也表现出一定程度的增强.经分析得出紫光应是激子发光所致,而锌填隙则是引起蓝光发射的主要原因,502 nm左右的绿光峰应该是氧的深能级缺陷造成的.此外,还测量了样品的吸收谱,并结合样品吸收谱的拟合结果对光致发光机理的分析作了进一步的验证.

关键词：ZnO薄膜、射频磁控溅射、X射线衍射、光致发光

所属期刊栏目：28

分类号：O484(固体物理学)

资助基金：国家自然科学基金60276015;甘肃省自然科学基金0710RJZA105;甘肃省重点实验室基金KF-05-03

在线出版日期：2008-11-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：2028-2032