磁头抛光液用金刚石超微粉研究

摘要：

利用原子吸收光谱(AAS)、电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)、粉晶X射线衍射(XRD)、激光拉曼光谱(RAMAN)、透射电子显微镜(TEM)等手段对磁头抛光液用金刚石超微粉进行了研究.AAS和ICP-MS测试结果显示,静压触媒法合成的金刚石超微粉中主要含有硅的氧化物和铁、镍、铝等一些金属杂质;XRD图谱中除了金刚石尖锐的特征峰以外,在2θ=35.6°,39.4°,59.7°处还观察到SiO2的特征衍射峰,表明金刚石超微粉结晶程度高、硬度大,但其中含有一定量的硅氧化物物相;在RAMAN图谱中除了金刚石的特征谱外在1592cm-1处可观察到宽化了的石墨的特征谱;从TEM照片可以观察到微粉粒度分布在0.1～0.5μm之间,但是颗粒锋利棱角的存在有利于提高抛光效率.金刚石超微粉的高硬度、强的耐磨性、高的抛光效率使其适于作为磁头抛光液磨料使用.但是,杂质的存在影响抛光效率、缩短抛光液寿命;宽的粒度分布降低了抛光的精度.因此,使用前必须对金刚石超微粉进行提纯、分级处理;使得金刚石超微粉的纯度达到99.9%以上、有害杂质SiO2的含量不超过0.01%,并且使超微粉的平均粒径为100 nm且大于200nm的颗粒在总的颗粒中小于2%.

关键词：磁头抛光液、金刚石超微粉、表征

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分类号：O433.4(光学)

资助基金：湖北省科技攻关重大项目2002AA105A;武汉市科技攻关计划项目20061002079

在线出版日期：2008-08-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：1016-1019