10.3964/j.issn.1000-0593.2008.03.030
退火处理对YMnO3薄膜的结构和荧光性能的影响
室温下,采用脉冲激光沉积方法在Si(100)衬底上制备了YMnO3薄膜,并对其进行了不同温度的退火处理.采用X射线衍射和荧光光谱分析方法对薄膜的结构和荧光特性进行了研究.结果表明:通过退火处理,可以得到正交相和六方相共存的多晶态YMnO3薄膜,并且随着退火温度的升高,两相的比例发生变化,由正交相为主转变为六方相为主.YMnO3薄膜样品的荧光发射峰集中在波长430~620 nm范围内,可能是由Mn3+离子从5T2到5E之间的能级跃迁所引起的.其荧光强度随着退火温度的升高逐渐增强,但峰位基本保持不变,说明薄膜结构的改变对Mn3+离子的能级跃迁几率有明显的影响,对能级位置的影响不大;而且荧光光谱还显示在同一薄膜中各个荧光峰的相对强度随着退火温度的变化不大.
YMnO3薄膜、荧光性能、脉冲激光沉积
28
O484(固体物理学)
国家自然科学基金60606004;上海市纳米科技专项基金0652nm023
2008-05-26(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
606-608