10.3321/j.issn:1000-0593.2004.01.005
流动注射抑制化学发光法测定痕量强力霉素
基于在NaOH介质中, 强力霉素对Luminol-KMnO4体系发光反应具有强烈的抑制作用, 建立起流动注射抑制化学发光测定痕量强力霉素的新方法. 强力霉素在0.005~5.0 μg· mL-1浓度范围内, 采用不同的KMnO4溶液浓度, 分段建立起抑制化学发光强度与其浓度间良好的线性关系, 方法的检出限为2.0×10-3μg·mL-1. 该方法可用于药片中强力霉素含量的测定.
强力霉素、流动注射、抑制化学发光
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O657.3(分析化学)
国家自然科学基金20175005;福州大学校科研和教改项目
2004-03-05(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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