10.3321/j.issn:1000-0593.2003.02.011
低气压下XeCl准分子的形成研究
本工作利用高频介质阻挡放电对较低气压(70~1 330 Pa)Xe/Cl2混合气体中XeCl准分子的形成过程进行研究.通过探测不同Xe/Cl2混合气压和不同Xe/Cl2混合比条件下放电等离子体在285~315 nm波长范围的荧光发射谱,得到了XeCl准分子在308 nm附近的荧光发射以及荧光强度随气压变化曲线.得出该实验条件下生成XeCl准分子的最佳Xe/Cl2混合比为4∶1.
XeCl准分子、介质阻挡放电、荧光发射谱
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O561.3(分子物理学、原子物理学)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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