用发射光谱法连续摄谱检测铸铁中的硅、锰、镁

摘要：

采用高压火花光源,一次预烧,连续摄谱的发射光谱法定量分析铸铁中硅、锰、镁三元素,加快了分析速度,可测定质量百分数为1.50%～3.50%的硅、0.40%～1.10%的锰、0.010%～0.090%的镁,其相对标准偏差分别为硅1.9%、锰3.0%、镁10.4%.

关键词：原子发射光谱法、铸铁、硅、锰、镁

所属期刊栏目：22

分类号：O657.31(分析化学)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：470-471