聚乙烯咔唑共价修饰黑磷纳米片及其在叠层阻变存储器中的应用

摘要：

提升阻变存储器存储密度的有效方法之一是通过对活性层的简单叠加制备三维垂直堆叠器件.使用S-1-十二烷基-S'-(α,α'-二甲基-α'-乙酸)三硫代碳酸酯(DDAT)共价接枝的二维黑磷(BP)纳米材料(BP-DDAT)作为关键的二维模板和可逆加成-断裂链转移(RAFT)试剂,成功制备了由聚乙烯基咔唑(PVK)共价修饰的黑磷纳米片(BP-PVK).采用傅里叶红外光谱、X射线光电子能谱、紫外-可见吸收光谱等手段对BP-PVK进行了表征.PVK在BP表面的共价接枝有效地提高了BP的环境稳定性和在常见有机溶剂中的溶解度.以BP-PVK为活性层,在玻璃基底上制备了一种结构为Al/BP-PVK/Al/BP-PVK/Al的双层17×17横条阵列垂直堆叠的阻变存储器件,该器件在室温下表现出了典型的双稳态非易失性可擦写存储性能,开/关电流比超过103,良品率和均一性较高.

关键词：黑磷纳米片、聚乙烯基咔唑、阻变存储、非易失性、叠层阻变存储

所属期刊栏目：36

分类号：O69;TB34;O633.21(应用化学)

资助基金：国家自然科学基金51961145402

在线出版日期：2023-02-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共11页

页码：31-41