铁电薄膜及其制备技术
万方数据知识服务平台
应用市场
我的应用
会员HOT
万方期刊
×

点击收藏,不怕下次找不到~

@万方数据
会员HOT

期刊专题

10.3969/j.issn.1673-808X.2001.02.011

铁电薄膜及其制备技术

引用
具有铁电性且厚度尺寸为数十纳米到数微米的铁电薄膜具有良好的压电性、热释电性、电光及非线性光学特性,在微电子学、光电子学、集成光学和微电子机械系统等领域有着广泛的应用前景,是目前国际上新型功能材料研究的热点之一。通过综述铁电薄膜及其制备技术研究的新进展,给大家介绍铁电薄膜材料的基本特征、性能及应用,并重点分析铁电薄膜主要制备技术的优缺点,指出了目前铁电薄膜及其制备技术研究需要重点解决的一些问题。

铁电薄膜、制备技术、溅射、脉冲激光沉积、溶胶-凝胶、金属有机物化学气相淀积

21

O485(固体物理学)

2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

47-51

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

桂林电子工业学院学报

1673-808X

45-1351/TN

21

2001,21(2)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn