Ir/HfO2复合涂层的制备及性能研究

摘要：

利用化学气相沉积(CVD)技术制备了HfO2涂层和Ir/HfO2复合涂层,采用金相显微镜(OM)、扫描电镜(SEM)、电子探针(EPMA)对涂层的性能进行分析.结果表明:在沉积Ir时,沉积室升温速率≤10℃/min时,制备出的Ir/HfO2复合涂层经真空高温热处理后可获得表面质量良好的Ir层,且Ir层纯度达到99.77％;真空热处理有益于提高Ir/HfO2复合涂层之间的结合程度,且热处理温度越高,结合效果越好;表面制备有HfO2涂层的Ir棒在1980℃氧化10 h的条件下,HfO2涂层对Ir的保护效果显著,可将Ir的氧化深度由毫米级降至数十微米.

关键词：化学气相沉积、Ir/HfO2复合涂层、氧化性能

所属期刊栏目：44

分类号：TG146.3+4(金属学与热处理)

资助基金：云南省创新引导与科技型企业培育计划;云南省重点研发计划;云南省重点研发计划

在线出版日期：2023-04-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：1-6