磁控溅射沉积钌薄膜的微观结构及生长过程

摘要：

采用射频磁控溅射,通过改变基底温度、溅射时间、基底形貌,制备不同参数的钌薄膜.结果表明,该工艺制备的钌薄膜均没有明显的择优取向.随着溅射温度的升高,薄膜的致密性不断提高,表面由平整向起伏型结构转变,晶粒尺寸出现先增大后减小的趋势.随着溅射时间的增加,晶粒尺寸小幅增加,晶粒由圆形状演变为致密的长条状.在表面形貌较平坦的基底上更易获得光滑而致密的钌薄膜.在此基础上,研究并讨论了不同基底形貌上钌薄膜的生长方式.

关键词：磁控溅射、钌薄膜、微观形貌、薄膜生长模型

所属期刊栏目：41

分类号：TG146.38(金属学与热处理)

资助基金：国家重点研发计划;云南省科技厅基础研究计划青年项目;云南省创新团队;昆明市稀贵金属溅射靶材科技创新团队

在线出版日期：2021-03-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：44-52