10.3969/j.issn.1004-0676.2019.01.015
钌粉提纯和钌靶制备的研究进展
钌靶在电子信息行业中具有重要的应用价值,我国的钌靶制备技术与国外相比尚存在一定差距.综述了钌提纯中传统提纯工艺和新提纯工艺的特点.对比了热压(HP)、直接热压(DHP)和放电等离子烧结(SPS)等不同工艺加工所得钌靶的差异.分析了靶材的纯度、密度、晶粒大小、晶面取向、成分和组织的均匀性等特性对溅射薄膜的影响.探讨了高品质钌靶的制约因素和发展方向.
金属材料、钌、靶材、提纯、制备、溅射薄膜
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TG146.3+8(金属学与热处理)
国家重点研发计划项目2017YFB0305503;云南省院所专项项目2009CF003
2019-06-10(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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