NiPt60%合金靶材磁控溅射前后形貌及结构观察

摘要：

镍合金和铂合金靶材是电子半导体行业重要的镀膜材料。悁究镍合金和铂合金靶材对于改善薄膜质量和提高器件性能有重要意义。采用2种不同工艺制备了NiPt60%合金溅射靶材。使用金相显微镜(OM)，扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)观察并分析了磁控溅射前后靶材表面的形貌及结构。结果表明，采用热轧-热处理制备的靶材晶粒粗大但均匀，平均晶粒尺寸约为100μm；采用温轧-热处理制备的靶材细小但不均匀，平均晶粒尺寸约为50μm。溅射后的靶材形貌与晶粒尺寸和分布息息相关。

关键词：金属材料、NiPt合金、形貌、结构、靶材、晶粒尺寸

分类号：TG146.3+3(金属学与热处理)

资助基金：云南省对外科技合作计划项目2014IA037;云南省战略性新兴产业发展专项资金项目。

在线出版日期：2015-12-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：57-60