10.3969/j.issn.1004-0676.2015.04.005
半导体工业用镍铂合金靶材的制备及结构研究
采用熔炼、均匀化退火处理及温轧技术制备出NiPt合金靶材.采用金相、扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)等手段对NiPt合金在制备过程中的结构变化进行了研究.同时也研究了靶材结构与靶材溅射后表面形貌之间的关联性.研究表明,均匀化处理对NiPt合金获得择优取向具有明显影响,合金经过铸造、均匀化、轧制等工艺,其硬度分别为292、218、439,可分别形成(200)织构、(311)织构、(200)+(220)织构.靶材微观结构与溅射后表面形貌均匀性具有关联性.
金属材料、NiPt合金靶材、均匀化退火、轧制、择优取向、磁控溅射
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TG335.5;TN305.92(金属压力加工)
云南省对外科技合作计划项目2014IA037;云南省战略性新兴产业发展专项资金项目
2016-04-19(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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