EBSD研究高纯金溅射靶材的微观组织与织构

摘要：

溅射靶材的微观组织均匀性、晶粒尺寸大小及晶粒取向分布对溅射性能有着直接的影响。采用电子背散射衍射(EBSD)技术对制备的高纯Au溅射靶材不同区域的微观组织、织构组分和晶界取向差进行了研究。结果表明，高纯金靶材整体晶粒尺寸分布均匀，平均尺寸192.5 nm，边沿及中心晶界取向差分布比较相似，组织均匀性良好，对溅射高质量薄膜十分有利。

关键词：金属材料、高纯金、溅射靶材、电子背散射衍射、取向差、织构

分类号：TG146.3+1(金属学与热处理)

资助基金：国家科技支撑计划2012BAE06B05。

在线出版日期：2014-09-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：45-48