磁控溅射制备Ru-B薄膜的研究

摘要：

　　采用射频磁控溅射技术制备了Ru-B薄膜，利用掠入射X射线衍射(GIXRD)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)、原子力显微镜(AFM)等分析技术对薄膜的相结构、沉积速率以及表面形貌进行了研究分析。结果表明：在室温下制备的 Ru-B 薄膜均为非晶态。薄膜的沉积速率不随溅射时间变化，但随溅射功率的增加而增大。薄膜表面光滑致密质量良好，随着溅射时间的延长，薄膜表面晶粒大小和粗糙度增大。溅射功率影响着基片表面粒子的形核长大和迁移扩散速率，进而影响薄膜的表面形貌。

关键词：金属材料、超硬薄膜、磁控溅射、Ru-B薄膜、表面形貌

分类号：TB34(工程材料学)

资助基金：国家自然科学基金51262015;云南省应用基础研究重点项目2010ZC261;云南省应用基础研究项目2010ZC55资助。

在线出版日期：2013-08-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：5-9,14