10.3969/j.issn.1004-0676.2013.01.017
磁控溅射用CoCrPt系靶材制备技术研究进展
目前在高密度磁记录薄膜中大量使用到CoCrPt系溅射靶材.重点介绍了CoCrPt系磁性靶材国内外发展现状,靶材制备中的主要工艺以及质量控制内容和方法,最后分析了存在的技术难点和需要解决的问题.
金属材料、粉末冶金、CoCrPt、溅射靶材、熔铸法、质量控制
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TG146.4(金属学与热处理)
国家科技部院所技术开发专项2010EG215060;云南省院所技术开发专项2009CF003;国家基金项目U0837601;云南省基金项目2010CD126,2010ZC55
2013-04-16(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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