10.3969/j.issn.1004-0676.2012.01.015
MOCVD法制备钯膜用的前驱体研究现状
金属钯薄膜作为一种新型的稀贵金属低维材料,因为其优异的物理和化学性能,在耐高温涂层、微电子、膜反应器、催化等领域有着非常重要的应用.钯薄膜优异的性能及广阔的应用前景引起人们广泛的关注.介绍了金属有机化学气相沉积(MOCVD)法制备钯膜用前驱体的研究进展以及MOCVD工艺中各类前驱体的优缺点,概述了其目前研究的热点和进一步研究的方向.
金属材料、钯薄膜、前驱体、金属有机化学气相沉积
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TG146.3+6(金属学与热处理)
云南省科研院所技术开发研究专项2007CF01
2012-08-31(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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