10.3969/j.issn.1004-0676.2005.02.014
贵金属化学气相沉积的研究进展
简要介绍了贵金属薄膜和涂层材料化学气相沉积(CVD)技术的研究进展,包括贵金属的CVD制备方法、沉积贵金属的各种前驱体化合物以及CVD制备的贵金属薄膜和涂层的应用状况等.
金属材料、贵金属薄膜和涂层、化学气相沉积、前驱体、应用
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TG146.3(金属学与热处理)
国家自然科学基金50171031;国家高技术研究发展计划863计划2003AA305770;云南省科技攻关项目2003PY10
2005-06-23(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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